ILS12.75

  • ILS 12.75プラットフォーム
  • ILS 12.75プラットフォーム
  • ILS 12.75プラットフォーム
  • ILS12.75プラットフォーム
ILS12.75の仕様

ILS12.75の仕様

プラットフォームの概要

ILS12.75は、1219×610×305mm(226,795 cm³)の加工エリアを持つ、自立型プラットフォームです。1台のレーザープラットフォームでは、10.6uのCO2レーザー(10~75ワット)1台か、9.3µのCO2レーザー(30、50または75ワット)1台をサポートします。

プラットフォーム仕様

ILS12.75
ワークエリア(W x H)1219×610mm
最大収容可能サイズ(W x H x D)1334×762×305mm
本体サイズ(W x H x D)1753×1105×1168mm
回転容量最大径:260mm
電動式Z軸引き上げ機能27kg
Pass-Through™クラス4モード加工エリア∞×603mm
Pass-Through™クラス4モードクリアランス603mm×203mm
使用可能な集光レンズ50mm
75mm
HPDFO™(ハイパワー高密度集積レンズ)
レーザープラットフォームインターフェイスパネルキーパッドと液晶ディスプレイで、作業中のファイル名、レーザー出力、彫刻スピード、PPIおよびランタイムを表示します。
コンピューター要件Windows® 7/8/10 32/64ビットを搭載し、USBポート(2.0以上)ひとつを持つ専属PCが必要
光学系保護圧縮エアベースのオプティクス保護に対応
キャビネットタイプ自立型
レーザー出力10, 30, 40, 50, 60、および75ワット
オプションのデュアルレーザー構成
重量215kg
電力要件220~240 V/10 A (1レーザー)
220~240 V/16 A(2レーザー)
排気要件
102mmポート2つ静圧で1000CFM@152.4mm(1.5kPaで1700m3/hr)

付属アクセサリー

オプションのアクセサリー

プラットフォームの特長


レーザーの特徴