Экструдированная фторполимерная пленка Saint-Gobain CHEMFILM® ETFE-E2 представляет собой сополимерную пленку, состоящую из этилена и тетрафторэтиленовой смолы. Материал CHEMFILM ETFE-E2 устойчив к химическим веществам, атмосферным условиям, усталостным трещинам и разрыву. CHEMFILM ETFE-E2 состоит из сополимерной смолы толщиной 25 мкм. Схема материала CHEMFILM ETFE-E2 показана на рисунке 1.
CHEMFILM ETFE-E2 характеризуется отличной стабильностью размеров, малой поверхностной энергией и высокими механическими свойствами. Saint-Gobain CHEMFILM широко применяется во многих отраслях промышленности в качестве подложки для клейких лент, съемной пленки и прокладочного материала. Бесконтактный характер лазерной обработки позволяет обрабатывать проекты со сложной геометрией и мелкими элементами, что может быть затруднительно при использовании традиционных механических методов. Для CHEMFILM ETFE-E2 применима только лазерная резка, при которой получаются качественные кромки и минимальные зоны теплового воздействия. Другие лазерные процессы не рекомендуются, поскольку они не соответствуют предполагаемому использованию этого материала. Технологии компании Universal Laser Systems упрощают единообразную и многократную обработку этого материала с высокой точностью размеров, поскольку бесконтактный характер лазерной резки исключает деформацию материала во время обработки.
Примечания к лазерной обработке
Материал CHEMFILM ETFE-E2 был протестирован для оценки применимости лазерной обработки и определения наилучшей конфигурации пиковой мощности и длины волны лазера. Тонкая сополимерная пленка CHEMFILM ETFE-E2 одинаково эффективно поглощает лазерную энергию с длиной волны как 9,3 мкм, так и 10,6 мкм. На рисунке 2 показано сделанное под микроскопом при 300-кратном увеличении изображение кромки CHEMFILM ETFE-E2 после лазерной резки. Трехмерное изображение на рисунке 3 показывает, как пленка реагирует на лазерную резку с конфигурацией системы: одинарный лазер мощностью 30 Вт и длиной волны 9,3 мкм.
Рисунок 2. Сделанное под микроскопом (300-кратное увеличение) изображение кромки CHEMFILM ETFE-E2 после лазерной резки. Зона теплового воздействия составляет 30 мкм.
Рисунок 3. Трехмерная визуализация сделанного под микроскопом (300-кратное увеличение) изображения кромки CHEMFILM ETFE-E2 после лазерной резки.
Пример обработки
Благодаря технологии Universal Laser Systems могут быть реализованы проекты по обработке материала CHEMFILM ETFE-E2, в которых требуется получать сложные геометрические формы и мелкие элементы без ухудшения физических свойств материала. Пример, демонстрирующий результаты лазерной резки материала CHEMFILM ETFE-E2 с использованием рекомендуемой конфигурации системы, показан на рисунке 4.
Рисунок 4. Пример геометрии, которую можно получить при помощи лазерной резки материала CHEMFILM ETFE-E2.
Заключение
Материал CHEMFILM ETFE-E2 подходит для лазерной обработки и был тщательно протестирован для определения оптимальной конфигурации системы. В ходе тестирования установлено, что лазерная резка этого материала является практически выполнимой, а лучшая конфигурация для его обработки — мощность CO2-лазера 30 Вт при длине волны 9,3 или 10,6 мкм. CHEMFILM ETFE-E2 эффективно поглощает лазерную энергию при длине волны 9,3 или 10,6 мкм, позволяя получать кромку реза с минимальной зоной термического воздействия и обесцвечивания.
