Historia de las innovaciones de ULS
Universal Laser Systems se fundó en 1988 con la visión de expandir el potencial del procesamiento de materiales mediante láser, para incluir materiales y procesos múltiples con un solo sistema láser. La base de los sistemas láser ULS es un diseño modular que permite que una plataforma única se pueda configurar para procesar una gran cantidad de materiales.
- La compañía se inaugura en octubre como Applied Laser Technology con la introducción del ALT-2010 con un láser de 20 vatios.1988
- Introducción del ALT-5010 con un láser de 50 vatios.1990
- El nombre de la compañía cambia a Universal Laser Systems (ULS) y el nombre de los productos cambian a ULS 1720 y ULS 1750.1991
- Introducción de la versión del láser de 100 vatios de ULS 1750, llamado ULS 17100.1992
- Introducción del ULS-25 y creación de la versión OEM para Trotec (Trotec 25R).1993
- Introducción de PS con un sistema de desplazamiento más grande y nuevo, y versiones OEM para Trotec (Trotec 25PSR y Trotec 50PSR).1994
- Introducción de las versiones 25E y OEM para Trotec (Trotec 25ER) y New Hermes/Gravograph (ISL2000).1995
- Introducción de Optima y Optima Jr, producto exclusivo OEM para New Hermes/Gravograph.1996
- Introducción de los sistemas láser M, V y X, y versiones OEM de los modelos M y V para New Hermes/Gravograph (ISL2001, ISL3001). Introducción del primer ULS diseñado y fabricado para láseres de 25/30 vatios.1997
- Introducción del primer sistema láser de escritorio C-200. Además, introducción del primer quiosco láser todo en uno para la industria de la personalización.1998
- Introducción de los láseres de 40 vatios y 50 vatios de ULS. Lanzamiento de la división OEM.1999
- Introducción del concepto de láser de cambio rápido de “Plataforma”, Rapid ReconfigurationTM y del láser ULS de 60 vatios. Introducción del concepto Dual Laser ConfigurationTM en la plataforma X2.2000
- Introducción de SuperSpeedTM.2001
- Introducción de mejoras para el pulsado de láser de altas velocidades.2002
- Introducción de los Sistemas Láser VersaLASER� y la nueva generación de software con la primera base de datos de materiales, y la introducción del láser ULS de 10 vatios.2003
- Introducción del primer sistema láser diseñado para los mercados industriales, el XL, con el primer sistema ULS de servo propulsión.2004
- Introducción de HPDFOTM.2005
- Introducción de la nueva generación de los láseres ULR (nuevas versiones OEM: Clase 4, Básico, Enfriado por aire y Enfriado por agua).2006
- Introducción de PLS, VLS de escritorio e ILS, junto con Laser Interface+ (segunda generación del controlador de la base de datos de materiales) y el programa de cálculo de los trabajos mediante láser.2007
- Introducción del láser ULS de 75 vatios, y las plataformas PLS, SuperSpeed y VLS. Introducción de láseres CO2 de 30 y 50 vatios con 9,3 micrones.2008
- Introducción de ILS, SuperSpeed, 1-Touch Laser PhotoTM la nueva interfaz de software única Panel universal de control (UCP) para todos los sistemas láser, que cuenta con nuevas funciones como los modos de reubicación y duplicación.2009
- Introducción de la nueva versión de 1-Touch Laser Photo™ con vista previa de simulación de materiales.2010
- Introducción del sistema láser de longitud de onda múltiple PLS6MW.2011
- Introducción de la característica Registro universal de cámaraTM para ILS Función de importación de DXF/PDF .2012
- Introducción de los sistemas láser industriales XLS10.150D y XLS10MWH con la tecnología de cojinetes hidrostáticos, el registro de cámara de nueva generación, la tecnología MultiWave HybridTM, y el software de control de nueva generación LSMTM (Administrador del sistema láser). Introducción del Limpiador de aire UAC 4000 con filtros de carbón doble patentados para las plataformas ILS y XLS.2014
- Introducción de láseres de alta potencia de 250/500 vatios.2015
- Introducción del Limpiador de aire UAC 2000 para las plataformas VLS y PLS. Patentes galardonadas por su fabricación flexible y Tecnología Multi-Wave Hybrid. Introducción del láser CO2 de 75 vatios con 9,3 micrones.2016
Cartera de patentes de ULS
Desde su fundación en 1988, Universal Laser Systems ha sido una compañía impulsada por la innovación y motivada por el avance de la tecnología láser y de sus aplicaciones en el procesamiento de materiales. Los esfuerzos del departamento de investigación y desarrollo han producido una importante cartera de patentes.
Innovación del procesamiento láser
Resonadores láser
Innovaciones de construcción de fuentes láser
Innovación de servicio de fuente láser
Innovaciones de enfriamiento de fuentes láser
- US 5,754,575 – Láser de plancha de gas de espacio libre – Mayo, 1998
- US 5,894,493 – Láser de plancha de gas de espacio libre – Abril, 1999
- US 5,901,167 – Láser de gas enfriado por aire – Mayo, 1999
- US 7,415,051 – Equipamiento y método de láser enfriado por aire – Agosto, 2008
- US 9,263,845 – Láseres de gas enfriados por aire con óptica de resonador de transferencia de calor y sistemas y métodos asociados – Febrero, 2016
- US 9,281,649 – Láseres de gas enfriados por aire con unidad de transferencia de calor y sistemas y métodos asociados – Marzo, 2016
Mejora en la respuesta de la fuente láser
Fuente de alimentación de RF de fuente láser
Concepto de quiosco láser portátil
Configuración láser doble
Diseño del gabinete de escritorio VLS
HPDFO™ (Piezas ópticas de enfoque de alta densidad de potencia)
Enfriamiento por aire en línea
Módulo de conversión Clase 4
Extracción móvil
Sistema láser con innovación de chorro de tinta
Innovación en el posicionamiento del haz láser
Innovación en el filtrado de aire
Tecnología MultiWave Hybrid™
Método de fabricación flexible
