포토폴리머는 광 활성화 수지, 광 민감성 수지 또는 포토레지스터라고도 부르며 모노머, 올리고머, 폴리머, 기타 개별 공정별로 특정적인 첨가제로 이루어진 다양한 조성으로 제조될 수 있습니다. 대부분 포토폴리머의 레이저 가공은 9.3 또는 10.6 미크론 CO₂ 레이저를 이용하여 가능합니다. 사용되는 포토폴리머 조성이 매우 다양하기 때문에 1.06 미크론 파이버 레이저 흡수는 포토폴리머마다 다릅니다. 9.3 또는 10.6 미크론 CO₂ 레이저를 사용한 포토폴리머 레이저 절단은 깨끗한 모서리의 절단면을 만들고 파장에 따른 품질의 큰 차이가 없습니다. CO₂ 레이저를 사용한 포토폴리머 레이저 제판은 깨끗한 표면 마감을 만들고 제판 깊이를 정밀하게 제어합니다. 일부 포토폴리머의 레이저 마킹은 1.06 미크론 파이버 레이저를 사용해 재료 표면에 약간 올라온 어두운 색의 마크를 만들 수 있습니다. CO₂ 레이저를 사용한 포토폴리머 레이저 마킹은 대비되는 마크를 만들지 못하기 때문에 권장하지 않습니다.